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光催化除臭設(shè)備是我公司從國外引進(jìn)先進(jìn)技術(shù)，與國內(nèi)多所知名院校積極合作，共同研究開發(fā)生產(chǎn)的一種能高效快速去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇、苯等污染物各種臭味的高科技環(huán)保設(shè)備。脫臭效率可達(dá)99.5%以上，脫臭效果大大超過國家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93），它具有適應(yīng)性強(qiáng)、運(yùn)行成本低、無需預(yù)處理和設(shè)備占地面積小等特點(diǎn)，

目前國際國內(nèi)治理惡臭的方法主要有物理法、化學(xué)法、生物法，包括吸附、直接燃燒、催化燃燒、化學(xué)氧化、生物濾池等處理手段。這些控制技術(shù)需從惡臭處理效果、工程投資、運(yùn)行成本、自控程度、占地大小和有無二次污染等方面對(duì)技術(shù)裝備進(jìn)行評(píng)價(jià)都無法跟光催化除臭裝置產(chǎn)品相比。

現(xiàn)在很多產(chǎn)生廢氣的廠房都裝設(shè)光催化除臭設(shè)備，雖然利用紫外光處理臭氣的方法出現(xiàn)的時(shí)間不長，但是由于處理效率高和處理臭氣徹底等優(yōu)點(diǎn)被廣泛應(yīng)用，但是這么好的方法也有缺點(diǎn)，那就是需要定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行清洗以及維護(hù)，下面就和大家做一個(gè)簡(jiǎn)單的介紹。

光催化除臭設(shè)備的清洗周期一般都為3個(gè)月左右，清洗的周期越短，那么臭氣處理的效率就會(huì)越高，如果長時(shí)間不清理，還會(huì)有很多的安全隱患。

清洗的洗滌劑就是普通的熱水和燒堿就可以完成，水溫控制在50°為最好，因?yàn)檫@個(gè)水溫?zé)龎A的處理能力是最佳水溫，把要清洗的設(shè)備放在洗滌槽中清洗就可以了。

清洗的主要流程就是切斷電源，把檢修門打開，拿出需要清洗的設(shè)備在燒堿水中浸泡半個(gè)小時(shí)之后，再用清水徹底的沖洗趕緊，用自然的方法干燥，確保設(shè)備干燥了就可以放回光催化除臭設(shè)備里了，這就完成了一次簡(jiǎn)單的清洗工作，當(dāng)光催化除臭設(shè)備安裝的時(shí)候廠家都會(huì)為企業(yè)的做清洗以及維護(hù)培訓(xùn)，因?yàn)榍逑吹倪^程不難，所以一般的人都可以操作，這也是光催化臭氣處理設(shè)備得到廣泛應(yīng)用的因素之一。

在清洗的過程中應(yīng)該嚴(yán)格按照流程去執(zhí)行，如果發(fā)生清洗流程錯(cuò)誤，那么很可能會(huì)造成機(jī)器永久性損傷，嚴(yán)重的機(jī)器就會(huì)徹底報(bào)廢。

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